Информация о проекте

1. Наименование проекта Наногетероэпитаксиальные структуры на основе нитрида галлия для твердотельной СВЧ и силовой электроники
2. Регистрационный номер ЦИТИС: 125040204755-5
3. Исполнитель Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
4. Ведомственная принадлежность Минобрнауки России - наука
5. Заказчик Минобрнауки России
6. Вид финансирования ГЗ
7. Вид НИОКТР Фундаментальная НИР
8. Приоритетное направление (основное), согласно Указу Президента Российской Федерации от 7 июля 2011 года № 899 Индустрия наносистем
9. Приоритетное направление (дополнительное), согласно Указу Президента Российской Федерации от 7 июля 2011 года № 899 Нет данных
10. Критическая технология (основная), согласно Указу Президента Российской Федерации от 7 июля 2011 года № 899 Нано-, био-, информационные, когнитивные технологии
11. Критическая технология (дополнительная), согласно Указу Президента Российской Федерации от 7 июля 2011 года № 899 Нет данных
12. Приоритет Стратегии НТР России, согласно Указу Президента Российской Федерации от 28 февраля 2024 г. № 145 Переход к передовым технологиям проектирования и создания высокотехнологичной продукции, основанным на применении интеллектуальных производственных решений, роботизированных и высокопроизводительных вычислительных систем, новых материалов и химических соединений, результатов обработки больших объемов данных, технологий машинного обучения и искусственного интеллекта
13. Приоритетное направление научно-технологического развития РФ, согласно Указу Президента Российской Федерации от 18 июня 2024 года № 529
14. Важнейшая наукоемкая технология (основная), согласно Указу Президента Российской Федерации от 18 июня 2024 года № 529
15. Важнейшая наукоемкая технология (дополнительная), согласно Указу Президента Российской Федерации от 18 июня 2024 года № 529
16. Общее тематическое направление Перспективные виды материалов, специальной техники и техники особого назначения
17. Приоритетное арктическое направление (основное) Нет
18. Приоритетное арктическое направление (дополнительное) Нет
19. Аннотация На сегодняшний день динамично возрастающие требования к современной радиоэлектронной аппаратуре все более жестко определяют необходимость повышения характеристик электронной компонентной базы (ЭКБ) (по многофункциональности, мощности, частотному диапазону и т.д.), её миниатюризации, возможности работы в экстремальных условиях (Арктика, космическое пространство). Создание и освоение технологии производства гетероэпитаксиальных структур на основе нитрида галлия является одним из ключевых этапов развития твердотельной ЭКБ (GaN HEMT) для СВЧ и силовой электроники, который позволит реализовать указанные требования. Однако возможности использования GaN HEMT сдерживаются различными ограничениями, устранение которых задает вектор исследований в данном направлении: а) борьба с коллапсом тока и утечками через затвор и буферные слои, б) получение нормально-закрытого транзистора, в) получение омических контактов.
20. Начало проекта 01.01.2025
21. Завершение проекта 31.12.2027